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「卡脖子」有解!清華團隊發表光刻機科研成果

SSMB原理驗證實驗示意圖。(取材自《自然》)
SSMB原理驗證實驗示意圖。(取材自《自然》)

清華大學與國外研究團隊在「自然」發表科研成果,該成果未來有望應用於EUV(極紫外光源)光刻和角分辨光電子能譜學等領域。清華大學工程物理系教授唐傳祥表示,這一發現有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖子」難題。目前研究組已向國家發改委提交項目建議書,申報「十四五」國家重大科技基礎設施。

文匯報、觀察者網報導,這篇題為《穩態微聚束原理的實驗演示》的研究論文,報告了一種新型粒子加速器光源「穩態微聚束」(Steady-state microbunching,SSMB)的首個原理驗證實驗。由清華大學工程物理系唐傳祥教授研究組和亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心(HZB)、德國聯邦物理技術研究院(HZB)合作完成。

清華大學提到,基於SSMB原理,能獲得高功率、高重頻、窄帶寬的相干輻射,波長可覆蓋從太赫茲到極紫外(EUV)波段,有望為光子科學研究提供廣闊的新機遇。

《自然》評閱人對該研究高度評價,認為「展示了一種新的方法論」,「必將引起粒子加速器和同步輻射領域的興趣」。相關評論則稱該實驗展示如何結合現有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光——的特性。SSMB光源未來有望應用於EUV光刻和角分辨光電子能譜學等領域。

報導指出,在中國,光刻機是芯片製造過程中一個「卡脖子」的環節。國產光刻機與國際水平差距非常大,國內處於技術領先的上海微電子裝備公司已量產的光刻機中,性能最好的是90納米光刻機,高端光刻機完全依賴進口。

另一方面,在「瓦森納協定」的封鎖下,高端光刻機在中國被禁售,ASML至今沒有頒發EUV光刻機出口中國的許可證;中端光刻機對中國出口也有保留條款,禁止給國內自主CPU做代工,導致自主技術成長困難重重。

「SSMB光源的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源,這是國際社會高度關注清華大學SSMB研究的重要原因。」唐傳祥這樣說。

目前,清華大學正積極支持和推動SSMB EUV光源在國家層面的立項工作。清華SSMB研究組已向國家發改委提交「穩態微聚束極紫外光源研究裝置」項目建議書,申報十四五國家重大科技基礎設施。

清華大學工程物理系教授唐傳祥表示,這一發現有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖...
清華大學工程物理系教授唐傳祥表示,這一發現有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖子」難題。(取材自鎂客網)

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