三星第二代3奈米製程效能傳改善逾20% 恐威脅台積電？

南韓媒體報導，雖然三星電子預定明年才會推出第二代3奈米製程，但已首度浮現一些技術細節，知情人士指稱效能比目前的4奈米製程快上超過20%，顯示三星電子商業化第二代3奈米製程的進程正如期推動。南韓業界人士認為，這個水準可能威脅台積電。

韓國每日經濟新聞英文版網站The Pulse報導，產業人士透露，三星電子將在6月於日本舉行的國際超大型積體電路技術研討會（International VLSI Symposium）上，以初步簡報透露目前的晶片技術狀況，簡報說明第二代3奈米製程的效能比目前的4奈米製程（SF4）快22%，節能程度提高34%，晶片尺寸也將比上一代縮減21%。

報導指出，三星電子發表的這項新資訊意義重大，因為這是該公司首次拿未來的晶片製程與主要的4奈米製程相比。之前，三星電子都是以5奈米製程作為比較下一代技術效能的基準，去年6月首度生產3奈米製程時，便聲稱效能比5奈米製程（N5）快23%，晶片尺寸縮小16%。

不過，產業專家審慎評估三星電子的最新進展，能否稱為技術能力的重大推進，特別是和台積電的競爭態勢。台積電最近宣布其第二代3奈米製程的效能比5奈米製程晶片改善18%，耗能減少32%。

一般認為，台積電的N5製程和三星電子的SF4製程相似。