美國會提案擴大管制晶片設備銷中 強制荷日比照辦理 浸潤式DUV也禁

美國國會議員公布一項擴大阻絕晶片製造設備銷往中國的法案，特別針對荷蘭和日本等盟國，助推華府進一步約束中國發展科技的野心。

美國聯邦眾院周四提出的法案草案，將強化現行對艾司摩爾（ASML）和東京威力科創（Tokyo Electron）等業者銷售半導體製造設備的管制。彭博引述知情人士報導，參議院預計將在今年內發布對應版本。

此舉目的是讓這些業者必須遵守和美國競爭對手同樣嚴格的限制，包括禁止工程師在中國的特定設施維護和維修設備，而美國公民早已被禁之列，這也一直是出口管制極有爭論的議題。

法案還將引進新管制措施，不只擴及外國企業，也影響美應用材料（Applied Materials）、科林研發（Lam Research）和科磊（KLA）在內的美國企業。

但華府對華鷹派人士始終認為，半導體管制可以發揮更大的成效。這項稱為「硬體技術管制多邊接軌法」（MATCH ），主導眾議院版本的眾議員鮑加納（Michael Baumgartner）在新聞稿中說：「這項法案旨在確保美國和我們的盟國採取同步行動，堵住這些漏洞、捍衛我們的技術優勢，並保護帶動武器系統到關鍵基礎設施等所有領域的供應鏈。」

提出對應參議院法案的參議員瑞克茲（Pete Ricketts）說，這項立法將有助於為「美國企業創造公平的競爭環境」。

其中最具影響力的措施，將是限制艾司摩爾所有的深紫外光浸潤式顯影（immersion DUV）機台。目前管制已禁止最先進的極紫外光顯影（EUV）機台，以及荷蘭政府先前施加的部分 DUV 管制措施，這是更進一步的管制措施。

荷蘭政府目前要求艾司摩爾必須為較先進的浸潤式DUV設備申請許可，但並非針對所有產品，且僅限於特定的終端用戶，而非中國境內所有的潛在買家。這法案將更進一步大幅限縮艾司摩爾進入中國市場的管道。

接著，記憶體龍頭長鑫存儲在內的特定中國企業將面臨更嚴苛的銷售限制，形同阻止這些企業採購任何美國及其盟國的生產設備。

這些措施超出了對中國整體的管制範圍。在某些情況下，華府早已對美國企業向相關設施的銷售行為，施加更激進的限制，而這項法案將強制盟國採取同步行動。此外，其他條款除了針對外國公司外，也將提高對科林研發、應用材料和科磊所面臨的管制層級。

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