ASML執行長：出口管制反加速中國自研曝光機

荷蘭曝光機巨頭艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）警告稱，收緊曝光機對中國市場的出口管制，反而將加速中國自主研發替代設備的步伐。他形容，這是「存亡問題」。

福克日前參加在比利時安特衛普舉行的科技活動並接受路透採訪，他呼籲針對晶片製造設備銷往中國，制定更為一致的規則。

美國國會4月提出「硬體技術多邊協調管制法案」（MATCH法案），要求荷蘭和日本等盟友遵守美國出口管制措施，防止中國獲取先進晶片製造設備。這項法案在現行極紫外光（EUV）機對中國全面禁售的基礎上，將浸潤式深紫外光（DUV）機等設備也納入全面限制。

福克說，艾司摩爾目前向中國出售的DUV設備，本身就是基於2015年的技術，為八代之前的晶片技術；如果進一步收緊限制，只會加速中國自主研發替代設備的步伐。

他比喻說，「如果我將你放到沙漠裡，告訴你今後再也沒有食物來源了，你需要多久才開墾出自己的菜園？這是存亡的問題。」

路透此前報導，這項法案是在美國最大記憶體晶片製造商美光科技推動下提出，針對的對象為中國長鑫存儲、長江存儲及中芯國際旗下工廠，以及遍及中國全境的關鍵技術。荷蘭政府對法案予以反對。

艾司摩爾今年1月預計，今年在中國市場的銷售額占比為20%，較去年的33%明顯減少。按中國海關總署的數據統計，中國今年首季從荷蘭進口的曝光設備年減24.3%。

今年3月中國全國「兩會」召開之際，中國半導體行業的9名領軍人物集體撰文，呼籲在「十五五」（2026年至2030年）規畫期間，「舉全國之力打造中國版的艾司摩爾」，突破美國的技術封鎖。