台積電亞利桑納廠有「銀色高速公路」EUV內部宛若小宇宙
晶圓龍頭台積電已公布一段影片，讓外界一窺位於美國亞利桑納州鳳凰城附近的Fab 21晶圓廠內部運作情況。
根據資訊科技網站Tom's Hardware報導，台積電這段影片秀出數百台高科技設備井然有序地生產晶片。Fab 21的鎮廠之寶無疑是艾司摩爾（ASML）的Twinscan NXE極紫外光（EUV）微影設備，用於產生像是輝達Blackwell B300等高階處理器中最複雜的電路。
這段影片讓外界可以見到台積電Fab 21一期廠區內部，起初內容顯示一條穿越無塵室的路徑，室內以黃色照明為主，這種燈光能過濾較短波長的光線，防止光阻劑意外曝光。目前Fab 21正在逐步提升採4奈米、5n奈米製程的晶片製造能力。
接著畫面出現所謂的「銀色高速公路」，也就是台積電的自動化物流搬運系統，由懸掛式軌道組成，用來運送裝載12吋晶圓的前開式晶圓傳送盒（FOUP）。畫面中可見數百個晶圓傳送盒同步移動，展現晶圓在晶圓廠內精密且高效率的物流運作，這對於在高產能製造環境下維持流程時序非常重要。
Tom's Hardware的報導指出，這段影片的核心部分聚焦於ASML的EUV微影設備（推測為Twinscan NXE:3600D型號），以類似電影《奧本海默》的風格，呈現把電路圖印在晶圓上的過程。
EUV微影設備內部使用一種二氧化碳雷射，轟擊鍚液滴產生電漿（在機台內可見紫色閃光即為鍚液滴被雷射擊中的瞬間），進而輻射出13.5奈米的極紫外光，再照射晶圓，可在單次曝光中形成解析度低至13奈半間距的精密電路圖樣。
影片同時指出EUV技術面臨的挑戰，包括僅數奈米等級的覆蓋精度（NXE:3600D可達1.1奈米）、隨機效應問題，以及因EUV光會被傳統光學鏡片吸收而必須使用多面鏡反射的技術。影片未展示晶圓載物台和光罩護膜，但這些技術確實用於Fab 21一期廠的設備中。
目前，台積電已在Fab 21一期廠為蘋果、超微（AMD）與輝達（Nvidia）等公司生產4奈米與5奈米製程晶片。同時，公司正興建Fab 21二期廠區，將具備量產3奈米和2奈米製程能力。
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