降低依賴ASML 中芯傳測試國產DUV 可生產7奈米AI晶片
英媒引述知情人士透露，中國晶圓代工一哥中芯國際拚突破西方封鎖，正在測試首款中國國產深紫外光（DUV）微影設備（也稱DUV曝光機），由上海新創公司宇量昇生產的28奈米DUV曝光機，藉由「多重曝光」（multi-patterning）可生產七奈米AI晶片，初步測試結果令人鼓舞。
不過，目前尚不清楚該曝光機是否何時能用於晶片的量產。
受此消息激勵，中芯國際在上海科創板掛牌A股一度飆漲10%，創下歷史新高；香港掛牌H股也收漲7.12%，同樣刷新紀錄。高盛最新報告將中芯國際H股目標價上調15%至73.1元港幣，主因看好中國IC設計需求和AI趨勢，將強勁支撐中芯國際的產量與平均售價。
英國金融時報報導，中芯國際正在測試宇量昇生產的DUV，該機器採用浸沒式技術，類似艾司摩爾（ASML）採用的技術，雖然是28奈米DUV，但藉由「多重曝光」可以生產七奈米晶片。
上海宇量昇科技公司是一家成立於2022年的國資控股高科技企業，專注於半導體曝光機的設備研發，註冊資本10億人民幣，總部位於上海浦東新區，網傳最新工商信息顯示，該公司控股權由兩家公司平分，分別為深圳市新凱來技術有限公司以及創科微（上海）技術有限公司，持股均為50%，並與華為、上海微電子、清華大學等技術合作。
報導稱，若該中國國產DUV能成功量產，將幫助中國突破美國對晶片出口管制，降低對西方技術依賴，並提升先進AI晶片產能。貝恩公司半導體分析師林清遠表示，此舉若成功，將成為中國企業研發更先進設備的重要基礎。
中芯計畫在2026年將產能提高三倍。大部分增產仍將使用現有ASML的DUV設備，中國國產設備預計最早2027年開始量產。不過，外界認為，中芯要從原型機到量產並與ASML競爭，仍需數年時間。
迄今為止，中芯國際和其他中國晶片製造商仍依賴ASML的設備，ASML是全球先進微影機台的主導廠商，但近年來在美國出口管制下，中國取得新機台的管道受限。
