國會晶片設備銷中議案刪減限制 但ASML的DUV仍受限
路透報導，美國國會一項旨在阻止更多晶片製造設備流入中國的法案提案，已刪減部分內容，但仍包含針對艾司摩爾（ASML）深紫外光浸潤式微影設備（DUV）的限制。艾司摩爾對此拒絕評論。
這項在眾議院提出、名為「MATCH」的立法提案，獲得兩黨議員支持，目的是要填補對銷往中國晶片製造設備限制中的漏洞，並使美國與日本、荷蘭等其他國家的政策保持一致。
路透看到的MATCH法案新版本當中，許多初版列出的限制條款已被刪除，例如，刪除了針對晶片低溫蝕刻設備的全國性限制。這類晶片製造設備的生產商包括總部在加州的科林研發（Lam Research）和日本東京威力科創（Tokyo Electron）。
不過，經調整後的新版法案仍禁止外國企業向中國的長鑫存儲、長江存儲和中芯國際等，已被美國列入禁用美制設備的中企提供設備。
MATCH是「硬體技術管制多邊協調法案」（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act）的縮寫，希望維護美國在人工智慧（AI）領域的領先地位。
法案4月初提出最初版本後，令美國及海外業者感到不安，有專家形容是一列「失控的列車」，該案不僅要迫使盟友與美國的管制措施保持一致，還施加了新的全國性的、廣泛的企業限制。製造商表示，這些限制會減少出口，損害銷售。
提出法案的眾議員鮑加納（Michael Baumgartner）現在計劃以新版本替代最初版本。眾議院外交事務委員會預定下周三表決MATCH法案，同時還將對十餘項涉及AI、半導體及出口管制的其他議案進行表決。
美國2022年底開始管制晶片製造設備輸往中國，限制實施後，美國一直試圖與荷蘭、日本協調管制政策。MATCH法案為美國與盟國供應商進行的外交談判設定了最後期限，並明定在期限屆滿後要求美國單方面實施管制。
中國的晶片製造商未回應路透的置評請求。中國駐華盛頓大使館發言人則是表示，北京將密切關注事態發展，並維護自身權益。
