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華為今年Q4傳發布麒麟9030 5奈米可期

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有供應鏈人士表示,華為今年第4季會有新的麒麟處理器9030公布,有可能會使用5奈米工藝。(取材自中關村在線)
有供應鏈人士表示,華為今年第4季會有新的麒麟處理器9030公布,有可能會使用5奈米工藝。(取材自中關村在線)

華為4日發布新一代三折旗艦手機Mate XTs 非凡大師,披露搭載麒麟9020系統級晶片(SoC),這也是麒麟晶片時隔四年重現華為發布會。有供應鏈人士表示,華為今年第4季會有新的麒麟處理器9030公布,有可能會使用5奈米工藝。

快科技報導,按照專業人士的說法,既然敢公布麒麟處理器的名字,就可以確認全部中國國產,美國的制裁已經不起作用了。按照之前鯤鵬930曝光的細節看,麒麟9030有可能會使用5奈米工藝。

之前就有博主爆料稱,外界盛傳的中國國產N+3(外界盛傳達到125mtr)工藝消息大概率是靠譜的,因為專利顯示的H210G56指標,計算下來就是125mtr的布線密度。博主表示,如果真成了,那也代表中國國產5奈米工藝就達成穩了。

據悉,中芯國際的N+3工藝具有顯著的電晶體密度,達到125MTr/mm(即每平方毫米125億個電晶體)。這一密度介於台積電的N6(113MTr/mm)與三星早期的5奈米(127MTr/mm)工藝之間,相當於台積電的5.5奈米工藝水準。

若以14奈米工藝為基點(密度約35MTr/mm),N+3的密度提升幅度超過了250%,這代表中芯國際在FinFET架構上的持續優化能力。

盡管N+3的命名容易讓人聯想到「等效5奈米」,但實際性能功耗表現對標的是台積電的N7P(7奈米增強版)和N6工藝。

這代表在相同電晶體數量下,中芯國際N+3的能效,可能比台積電的N5/N4工藝落後約15%到20%,這主要受限於EUV曝光機的短缺導致的工藝複雜度不足。然而,對於長期依賴成熟製程的中國國產晶片而言,這一進步已經足夠打破多項技術瓶頸。

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