沒跟進英特爾搶用 台積電：A14製程還沒找到理由採用最新型EUV

晶圓代工龍頭台積電（2330）高層主管透露，公司仍在評估何時在未來的製程中使用荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備。

台積電27日舉行2025年度技術論壇歐洲場。當有人提問台積電是否計劃將High-NA EUV設備用於即將推出的A14（1.4奈米）製程及未來製程的升級時，台積電業務開發、全球業務資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示，公司尚未找到令人信服的理由。

張曉強在記者會上表示：「A14，我所說的強化提升，在不使用High-NA EUV的情況下也非常顯著。因此，我們的技術團隊繼續尋找一種方法，透過利用規模效益來延長當前（低數值孔徑為影設備）的壽命。」

張曉強表示：「只要他們能繼續找到方法，顯然我們就不必使用它（High-NA EUV）。」

由於一台High-NA EUV造價超過4億美元，幾乎比目前晶圓廠中最昂貴設備的價格翻倍，因此晶片製造業者們正在權衡，昂貴的High-NA EUV在速度和精確度方面帶來的效益，何時才能蓋過其高昂價格帶來的成本。

英特爾已經計劃在其未來的14A製程中使用High-NA EUV，以重振其晶片代工業務，以便加強與台積電競爭。不過，英特爾也說，客戶仍可以選擇採用較舊且穩定的技術。

ASML上周透露，全球目前僅五台High-NA EUV正式出貨，客戶包括英特爾、台積電和三星。該公司執行長傅凱（Christophe Fouquet）在最近一次財報會議上表示，他預期客戶會為準備好為2026-2027年量產測試High-NA EUV。

張曉強去年對記者表示，台積電不會在其A16製程中使用High-NA EUV，還說他不喜歡該設備的售價。