美擬推新法限對中國晶片設備出口 ASML恐受影響
中國「觀察者網」6日引述彭博報導，美國跨黨派國會議員近日提出一項新法案，擬進一步收緊對中國的半導體製造設備出口限制，並將範圍擴及荷蘭、日本等盟國企業，包括荷蘭半導體設備大廠ASML（艾司摩爾）在內業者，恐受影響。
報導指出，該法案草案已於4月2日提交聯邦眾院，參院預計亦將提出對應版本。法案名稱為「硬體技術控制多邊協調法案」（MATCH Act），主要目的是讓美國及盟友在出口管制措施上採取一致標準。
根據內容，未來不僅美國企業，來自盟國的設備供應商也可能面臨與美企相同甚至更嚴格的限制，包括禁止相關企業工程師在中國特定設施提供設備維修與技術支援。此外，新規範也可能擴及部分美國本土企業，如應用材料（Applied Materials）、科林研發（Lam Research）及科磊（KLA）等。
在技術範圍上，法案重點鎖定中國仍高度依賴進口的關鍵設備，特別是用於晶片製造的浸潤式深紫外光（DUV）微影設備。該市場目前由ASML主導，日本廠商尼康（Nikon）亦有參與競爭。
目前，美國與荷蘭已限制最先進的極紫外光（EUV）設備出口至中國，荷蘭政府亦對部分DUV設備實施出口許可制度。若新法案通過，可能進一步限制ASML向中國銷售部分既有DUV設備，影響其在當地市場布局。
資料顯示，中國為ASML重要市場之一，2025年占其全球營收約3成。市場預期，在相關限制收緊下，占比可能下滑。
此外，法案亦規畫對部分中國主要晶片製造企業的設備供應施加更嚴格限制，並可能要求盟國同步採取類似措施，以避免出現管制漏洞。對於相關立法動向，ASML拒絕就此發表評論；荷蘭政府則指出，對其他國家國會提出的法案我們「不便評論」。
分析指出，該法案仍處於立法初期階段，後續推進及具體內容仍存在不確定性，但若落實，可能對全球半導體供應鏈及企業布局帶來影響。
另一方面，中國外交部此前已表達反對立場稱，「中方一貫反對美國泛化國家安全概念，以各種藉口脅迫其他國家進行對華科技封鎖」，並認為相關措施恐衝擊全球產業鏈與供應鏈穩定。
