半導體晶片戰／美荷台做大商機抗中 新聯盟成形

中國官方將「無上限補貼」中芯、華虹、華為等中資半導體廠，抵抗美方禁令之際，國際大廠老神在在。

輝達、艾司摩爾、台積電、新思科技（Synopsys）更進一步攜手衝刺下世代晶片研發，挾台、美、荷三地半導體指標廠能量，持續做大半導體商機，並拉開與中企的距離。

輝達是全球繪圖晶片龍頭，更在近期當紅的AI高速運算市場獨領風騷，台積電是全球最大晶圓代工廠，艾司摩爾則掌握晶圓代工先進製程最關鍵的顯影機台技術，新思科技為全球電子設計自動化（EDA）一哥。業界解讀，這次合作串聯全世界半導體設計、製造、設備大咖，能量強大。

輝達表示，當前晶片製程已接近物理極限，該公司完成一項突破性的成就，將加速運算用在運算式微影技術領域，包括艾司摩爾、台積電與新思科技等大廠皆能透過採用此技術，加速設計及製造下一代晶片。

輝達創辦人暨執行長黃仁勳表示，晶片業是世界上幾乎所有其他產業的基礎，在微影技術現已達到物理學極限的情況下，輝達新推出「cuLitho」，可協助晶圓廠提高產量、減少碳足跡，並為2奈米及更先進的製程發展奠定基礎。

據悉，輝達這項技術將可讓晶片採用比現在更精細的電晶體和線路設計，加快上市時間。

台積電總裁魏哲家指出，這項發展為台積電在晶片製造中，更大範圍地部署反向微影技術和深度學習等微影技術解決方案，開創新的可能性，為半導體微縮持續提供重要貢獻 。

輝達強調，近年來由於較新節點的電晶體數量較多，加上對精度的要求更為嚴格，半導體製造業中最大的工作負荷所需的運算時間成本早就超過了摩爾定律，未來的節點需要更精密的運算，但並非所有運算作業都能配合當前平台提供的可用運算頻寬，不利半導體業創新腳步，「cuLitho」不僅有助於打通這些關卡，還能協助開發出新的解決方案和創新技術，如曲線光罩、高數值孔徑極紫外光微影技術，以及新技術節點所需的次原子光阻建模。