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2奈米良率苦追不上台積電 韓媒披露三星撤離泰勒廠人員

南韓媒體報導,三星電子決定撤離美國泰勒廠員工,因為2奈米良率問題遲遲未能解決,這對三星先進晶圓製造業務是一大挫敗,也凸顯台積電技術領先地位屹立不搖。(路透)
南韓媒體報導,三星電子決定撤離美國泰勒廠員工,因為2奈米良率問題遲遲未能解決,這對三星先進晶圓製造業務是一大挫敗,也凸顯台積電技術領先地位屹立不搖。(路透)

南韓媒體Business Korea報導,三星電子公司已決定撤離美國泰勒廠員工,因為2奈米良率問題遲遲未能解決,這對三星先進晶圓製造業務是一大挫敗,也凸顯台積電技術領先地位屹立不搖。

報導指出,泰勒廠2奈米量產時程一再延宕,已從2024年底延到2026年,導致三星最後做出這項決定。

按起初規畫,泰勒廠將作為4奈米以下尖端製程量產重鎮,而且策略性選擇在接近美國大客戶所在地設廠。然而,三星在2奈米良率方面遭遇重重挑戰,導致效能和量產能力都不如頭號競爭對手台積電。

三星晶圓廠目前良率低於50%,尤其是3奈米以下的製程。相形之下,台積電先進製程的良率目前約60%至70%。良率差距這麼大,已導致兩家公司市占率落差擴大到50.8個百分點。第2季台積電全球晶圓市場占有率為62.3%,遙遙領先三星的11.5%。

一名業內人士說:「三星的GAA(環繞式閘極)良率僅約10%至20%,不足以接單和量產。」良率這麼低已迫使三星檢討策略,決定撤出泰勒廠大多數人員,只留下極少數人力。

三星 台積電 南韓

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