彭博：日、荷將加入美國管制對中出口DUV晶片生產設備

彭博引述了解協商人士報導，日本和荷蘭可望加入美國進一步限制中國取得先進半導體設備的行列，如此聯手之下，勢將阻礙中國自行開發晶片的能力。

知情人士透露，美國、荷蘭、日本官員最快在美國時間周五就供貨中廠的新一套規範完成協商。據了解，在華府的協商直到周四晚上仍在進行。知情人士透露，管制可能逕行實施，不會公開宣布內容。

荷蘭政府將擴大對艾司摩爾（ASML）設限，將不得出售所謂深紫外光微影（DUV）設備給中國，日本也將同樣對Nikon設此管制。艾司摩爾已無法供應中企用於先進製程的極紫外光（EUV）設備，如今成熟製程生產所需的DUV設備也將在管制之列。

拜登政府已於去年10月發布新規定，限制美國製造商向中國客戶提供最先進的晶片製造設備，並限制美國人為中國半導體公司工作。

自民黨貿易和工業委員會委員青山繁晴接受彭博訪問時表示，中國官方「100%肯定」會報復日本對拜登政府限制半導體出口的支持，面臨影響的公司應該在其他地方尋找市場。

「中國會採取更強的報復措施，而在中國開展業務的日本公司很可能會受到損害，」 青山主張這些公司應該「以此為轉折點，尋找其他市場」。他表示支持日本參與管制。