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抗美國施壓 荷蘭:出售中國曝光機 自有主張

全球半導體顯影設備龍頭荷商艾司摩爾(ASML)在2021年第4屆上海進博會的展台。(記者林宸誼/攝影)
全球半導體顯影設備龍頭荷商艾司摩爾(ASML)在2021年第4屆上海進博會的展台。(記者林宸誼/攝影)

美國希望限制中國的高階晶片發展,作為晶片領域關鍵一環,極紫外光(EUV)和深紫外光(DUV)曝光機的生產國,荷蘭的態度無疑是相當重要。不過荷蘭官員表示,將捍衛自己的經濟利益,荷蘭自有主張,拒絕聽從美方提出對中國禁售半導體設備請求。歐盟也發出聲音,不會效仿美國對中採取的強硬政策。

財聯社報導,荷蘭外貿與發展合作大臣施雷納馬赫(Liesje Schreinemacher)22日表示,在與美國等其他國家的貿易談判中,荷蘭將就艾司摩爾(ASML,中國稱阿斯麥)向中國銷售晶片設備的事宜,做出自己的決定。

從施雷納馬赫的表態來看,荷蘭反對配合美國對中國出口管制日益堅定。美國希望打壓中國在國內建立晶片產業並提高軍事實力的雄心,但荷蘭希望保住在中國主要市場地位。

艾司摩爾(ASML)是全球半導體顯影設備龍頭,占全球曝光機市場60%的市占,也是全球唯一一家能夠供應7奈米以下晶片所需極紫外光(EUV)曝光機的公司。

在與中國的貿易中,艾司摩爾(ASML)目前只供應了技術相對低一檔次的深紫外光(DUV)曝光機,該設備瞄準的是工藝技術在七奈米以上晶片的製造,覆蓋了目前市場上大部分成熟製程的晶片,而中國也是艾司摩爾(ASML)深紫外光(DUV)曝光機的最大客戶之一。

由於美國率先完成極紫外光(EUV)曝光機設備的原型設計和技術累積,艾司摩爾(ASML)極紫外光(EUV)曝光機的技術和零部件主要來自於美國,因此艾司摩爾(ASML)尚不能違反美國方面要求向中國供應該設備。

美國在公布政策限制中國獲取高尖端半導體設備的同時,仍擔心艾司摩爾(ASML)透過深紫外光(DUV)曝光機讓中國能夠發展7到14奈米級別的晶片。

包括商務部副部長Alan Estevez在內的美國高級官員代表團,將於本月前往荷蘭討論相關的出口管制問題,預計本次會談不會立刻達成協議。

施雷納馬赫認為,如果把深紫外光(DUV)放在歐盟的貿易條件裡與美國進行談判,最後結果相當於把深紫外光(DUV)送給美國,這會讓荷蘭的境況變得更糟。

彭博社認為,荷蘭高級官員的上述表態表明,荷蘭不願順從華盛頓切斷中國半導體技術供應的企圖。同時,美國在圍堵中國方面所採取的措施也在遭受其盟友的質疑。歐盟外交與安全政策高級代表博雷利22日在歐洲議會辯論中稱,歐盟不會效仿美國對中國採取的強硬政策。

晶片 歐盟 商務部

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