南韓SK海力士前員工洩密給中企 遭判刑1年6個月

南韓法院近日對一名SK海力士前職員因涉嫌向中國企業洩露商業秘密二審判刑。韓聯社9日報導，首爾高等法院判處這名前員工有期徒刑1年6個月，維持一審判決。該員工曾任職SK海力士中國法人，被控違反公司保密規定，列印、拍攝內部資料，並將部分涉及CMOS影像感測器（CIS）技術的商業秘密用於求職履歷，外洩給中國企業。

韓聯社引述南韓法律界9日消息指出，首爾高等法院刑事審判第10-1庭近期對涉嫌違反《產業技術保護法》、《防止不正當競爭和保護商業秘密》、背信罪的SK海力士金姓前職員判處有期徒刑1年零6個月，維持一審刑量。

報導稱，該金姓前職員涉嫌在供職於SK海力士中國法人的2022年洩露公司圖形感測器（CIS）相關尖端技術和商業秘密，並將其惡意利用。經查發現，金姓前職員作案前曾收到中國華為旗下海思技術有限公司跳槽提議。

報導還指，上述金姓前職員為編寫履歷而違反公司保安規定，從公司文檔管理系統列印和拍攝商業秘密資料，並將其外洩。他並在履歷中援引的部分商業秘密被外洩至中國企業。路透提到，截至目前，涉事中國企業名稱尚未被公開。

而就量刑理由，南韓二審法院表示，被告人洩露的商業秘密是公司多年投入大量資源而取得的成果，若對金姓前職員從輕處罰，會削弱公司的技術研發動力，且使得海外競爭公司以人才引進為藉口輕易奪取國內企業刻苦鑽研的技術。但因金姓前職員承認所有嫌疑，遭洩露的大部分商業秘密已收回，這些均被視為可考慮的有利情節。

此外，韓媒「亞洲商業日報」（Asia Business Daily）報導，金某此前另被指涉嫌洩露下一代記憶體技術高頻寬記憶體（HBM）的「混合鍵合」資料，但一審法院認定相關技術並不完全符合南韓產業通商資源部公告中的「尖端技術」定義，因此就此部分判決無罪，二審也維持原判。