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英特爾加快埃米級製程 叫陣台積電

英特爾11日宣布,啟動位於美國奧勒岡州的D1X廠擴產,並公布新的製程發展時程,把埃米世代的18A製程節點(相當於1.8奈米)推出時程提前約半年、在2024年下半年達陣。業界認為,在台積電14日法說會前夕,英特爾宣示加快埃米級製程量產速度,叫陣台積電意味濃厚,意圖彎道超車。

埃米是奈米的下一個長度單位,比奈米更精細,技術層次也更高。外界研判,英特爾的最新先進製程藍圖計畫比預期提前,等於宣告英特爾的先進製程將加快研發腳步,不論是對其晶片或晶圓代工同業,都下了強力戰帖。

英特爾執行長基辛格正力圖扭轉落後於其他對手的頹勢,並以D1X廠引領執行。從一個製程節點進展到更先進的技術,通常需時18到24個月來看,英特爾原本規劃五年內突破五個節點的目標就已經夠積極,這次再進一步把研發時程壓縮到要在四年內突破五個節點,更是超乎外界想像快。

英特爾資深副總裁納塔拉姜(Sanjay Natarajan)表示,位於奧勒岡州希爾斯伯勒市、擁有1.4萬名員工的D1X廠區,將擴建27萬平方英尺,占地擴大約20%。

D1X廠是英特爾的主要開發晶圓廠,這次擴建第三模組,為該廠2010年動工以來第二次擴廠。在完成擴廠後,將能容納18A製程節點生產所需的高數值孔徑極紫外光(EUV)設備,成為唯一能容納艾司摩爾TWINSCAN EXE:5200設備的晶圓廠模組。前述設備的體積龐大,但D1X廠原本的天花板太低,地板也難以支撐該設備的重量。

英特爾預料要到二年後才能收到這款機器設備,但已著手提前準備。該公司從去年8月已開始遷移關鍵工具到D1X廠,之後設備搬遷預料也需要一年時間。

根據英特爾先前公布製程節點進展規畫,Intel 7製程從2021年的Alder Lake用戶端產品,及今年第1季量產的Sapphire Rapids資料中心產品開始面市。Intel 4製程全面使用EUV微影技術,將於2022年下半量產,2023年開始出貨。演進到Intel 3製程,則將於2023下半年準備生產。從奈米進入到埃米世代,預計將從2024年逐步量產。

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