晶片大戰 美聯日、荷制中 禁售關鍵設備

彭博新聞27日報導，美日荷達成協議，日本與荷蘭將和美國一致，限制半導體設備製造商出口能製造先進晶片的設備到中國。

荷蘭和日本是目前全世界唯二有能力製造光刻機的國家，而光刻機是生產晶片的關鍵設備。美日荷27日達成的協議將限制艾司摩爾（ASML）、Nikon和東京威力科創（Tokyo Electron Ltd）等大廠，不得將先進晶片的製造設備出口至中國；例如，艾司摩爾就不得出售深紫外光微影（DUV）設備給中國。

美國去年10月7日宣布，限制美商將特定先進晶片和製造設備出售給中國廠商，展開與北京的半導體競爭，中國狀告世界貿易組織（WTO）要求推翻美國的管制措施；當時拜登政府承認還沒和盟友講好一致行動。

彭博引述知情人士說法報導，美日荷27日在華府達成針對部分先進晶片製造設備出口限制的協議，但協議內容不公開，此外，日荷兩國還需要數月時間完成法律工作，落實禁令。

英國金融時報也報導，在27日最後一輪的高階官員三方會談後，美日荷達成協議，距離美國獨自實施出口管制禁令已經三個月餘，最新協議對拜登政府阻止中國發展半導體產業來說，是重要里程碑。 

彭博將這項協議形容為「拜登的勝利」，因美國商務部去年發布禁令時，揭櫫目標為以限制中方發展超級計算機和半導體開發的技術，並避免中方透過晶片發展大規模毀滅性武器等軍事系統。

白宮國安會發言人並未立即回應這項報導。

荷蘭首相呂特（Mark Rutte）27日在海牙表示，相關討論已持續好一段時間，事涉敏感，荷蘭政府謹慎以對。

艾司摩爾執行長溫彼得（Peter Wennink）25日對彭博說，給中國的壓力越大，反而可能促使中方成功研發出本土的先進晶片製造技術。